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介孔二氧化硅的合成过程问题请教

刘晓F 举报此信息
大家好!本人是做介孔二氧化硅的菜鸟,在合成过程中遇到些问题,请各位大神指教!!
1.合成过程中说不能有气泡,是指加硅源时不能有气泡??还是加碱升温至整个反应结束都不能有气泡??反应温度是80度,升温过程中会有气泡产生的,等温度温度后气泡才消失,请问这有无影响??
2.离心后得到的沉淀是白色透明的,水洗 醇洗后才是白色沉淀。请问这是什么原因呢?0.7gCTAB+10ml无水乙醇+5.7mlTEOS,80度,PH是10.
3.看到有的文献会加乙酸钠,请问是为什么?
本人真真菜鸟,请各位大神多多相助!!
:hand::hand::hand:
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